CCP等離子刻蝕機(jī) 參考價(jià)：88000
CCP等離子刻蝕機(jī)(Plasma Etcher)是一種常用于微納米加工領(lǐng)域的設(shè)備，用于對(duì)半導(dǎo)體器件、光學(xué)元件、生物芯片等材料進(jìn)行精細(xì)加工和圖案定義。其原理基于等...
科研型等離子體干法刻蝕（ICP/CCP）系統(tǒng) 參考價(jià)：499999
PLUTO-E100型科研型等離子體干法刻蝕（ICP/CCP）系統(tǒng)是一款低成本，適合于科研機(jī)構(gòu)實(shí)驗(yàn)室的桌面型科研設(shè)備，整套系統(tǒng)的目的是在4寸以及以下的樣品上進(jìn)行...
國(guó)產(chǎn)等離子刻蝕機(jī) 參考價(jià)：面議
PLUTO-MH國(guó)產(chǎn)等離子刻蝕機(jī)是針對(duì)于高校，科學(xué)研究所和企業(yè)實(shí)驗(yàn)室，或者小批量生產(chǎn)的創(chuàng)新性企業(yè)而研發(fā)的創(chuàng)新型實(shí)驗(yàn)平臺(tái)。針對(duì)用戶不同的需求，我們提供不同功能附件...
ICP等離子刻蝕機(jī) 參考價(jià)：88000
ICP等離子刻蝕機(jī)WINETCH是面向科研及企業(yè)研發(fā)客戶使用需求設(shè)計(jì)的高性價(jià)比ICP等離子體系統(tǒng)。作為一個(gè)多功能系統(tǒng)，它通過優(yōu)化的系統(tǒng)設(shè)計(jì)與靈活的配置方案，獲得...
國(guó)產(chǎn)等離子刻蝕機(jī)設(shè)備 參考價(jià)：面議
PLUTO-MH國(guó)產(chǎn)等離子刻蝕機(jī)設(shè)備是一種用于微納米加工的關(guān)鍵設(shè)備，主要用于半導(dǎo)體、光電子、納米材料等領(lǐng)域的微細(xì)加工和表面處理。等離子刻蝕技術(shù)是半導(dǎo)體制造中的關(guān)...(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
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